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日中商標シンポジウム開催のご案内(応募締め切り)


 日中間の経済活動が活発になるにつれ、出所や品質を表示する商標を他国において取得することの重要性が高まっています。 他方、日中両国において商標を適切に取得するためには、日中間の商標の類似判断の違いを正しく理解していなければなりません。 また、日本の品種名である「越光」「秋田小町」が中国で第三者により登録された事例が大きく報道されました。 これら一般名称等が他国で商標登録された場合、当該名称を他国への輸出物品に表示する行為は商標権を侵害する恐れもあります。

 そこで今回、日中双方の専門家を招へいし、上記課題をテーマとしたセミナーを開催することにいたしました。 両国商標制度に関する各議論を通じて、広く日中両国の知財関係者とともに、今後の商標制度とその重要性について考えていきたいと思います。
 参加を希望される方は、参加申込書に必要事項をご記入のうえ、3月17日(水)までにお申し込みください。 皆様のご参加をお待ちしております。
◆日中商標シンポジウムの概要(詳細につきましては開催案内状をご参照ください。)

日 時: 2010年3月24日(水) 14:00~17:30

場 所: 北京嘉里中心大酒店 4F  九龍庁
(北京市朝陽区光華路1号  TEL:010-6561-8833(内線6610))

主 催: 日本貿易振興機構(JETRO)、中国社会科学院知識産権中心

内 容:
 (1)中国商標法改正の状況
 (2)日本における外国語の地名、一般名称、品質を表す名称、品種名称等の登録要件、そして商標権侵害とならない正当使用の範囲 
 (3)中国における外国語の地名、一般名称、品質を表す名称、品種名称等の登録要件、そして商標権侵害とならない正当使用の範囲
 (4)日本における商標類似判断
 (5)中国における商標類似判断
 (6)人民法院における商標の類似判断

その他:参加費無料·シンポジウムは日中同時通訳でおこないます。



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