中米日欧意匠保護フォーラム、広東省で開催

   国家知識産権局、米国特許商標庁、日本特許庁、欧州商標意匠庁の共催する「中米日欧意匠保護フォーラム」が６月３日から４日にかけて広東省の仏山市で行われていた。国家知識産権局の李玉光副局長、日本特許庁と欧州商標意匠庁の代表、在広州米国総領事館の総領事が開幕式に出席し挨拶をした。
　企業や代理機構から１５０人余がフォーラムに参会した。各国からの政府職員と専門家がフォーラムにおいて、意匠の出願と保護について熱烈な議論を行い意見を交わした。演説者らが創意の観点から商標と著作権と意匠との異同を分析し、それぞれの優勢と欠点を説明しながら、意匠の効果的保護について権利者や企業の法律顧問、代理機構の関係者と討論を行った。
　フォーラムは国内企業が欧州、米国、日本における意匠保護の法的手続きについて認識を深め、国際的視野を広げる場となった。これにより、国内企業が国際市場に進出する際に意匠保護手段をよりうまく活用できるようになることが期待されている。

（国家知識産権網　2009年6月4日）